专利名称:一种基于光谱干涉装置的测量系统专利类型:发明专利发明人:不公告发明人申请号:CN201710259114.1申请日:20170419公开号:CN107121077A公开日:20170901
摘要:本发明涉及一种基于光谱干涉装置的测量系统,主要解决现有技术中存在的测量精度不足的技术问题,本发明通过采用所述测量系统包括光源,与光源依次连接的扩束准直透镜、起偏器、检偏器、自聚焦透镜、光谱仪及数据处理单元;待测双折射晶体连接于所述起偏器与检偏器之间;所述起偏器用于将经扩束准直透镜输出的平行光起偏为线偏振光;所述起偏器(的偏振轴与待测双折射晶体的任意偏振轴有夹角θ;检偏器与待测双折射晶体的任意偏振轴夹角为45度的技术方案,较好的解决了该问题,可用于双折射晶体厚度测量。
申请人:张家港市欧微自动化研发有限公司
地址:215634 江苏省苏州市张家港市杨舍镇塘市新泾中路10-1号5室
国籍:CN
代理机构:苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司
代理人:胡思棉
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