一种基于同轴干涉的波面测量系统和方法[发明专利]

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专利名称：一种基于同轴干涉的波面测量系统和方法专利类型：发明专利

发明人：贾伟,周常河,王津,项长铖,谢永芳,薄启宇申请号：CN201910430146.2申请日：20190522公开号：CN110132169A公开日：20190816

摘要：本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量系统，包括：马赫曾德双光束干涉光路、同轴干涉记录单元、二维移动平台、激光干涉仪单元及数据处理单元；待测光学元件设置在所述马赫曾德双光束干涉光路中，所述马赫曾德双光束干涉光路用于产生两束马赫曾德干涉光路，一路作为参考光，另一路作为测量光，其中测量光经过待测光学元件，所述同轴干涉记录单元设置在二维移动平台上，用于将两束马赫曾德干涉光路合路成同轴干涉信号，并记录同轴干涉信号的光强信息，本发明测量波面的尺寸和精度不再受限于分束镜的大小和表面质量，因此在大尺寸波面以及大尺寸光学元件面形测量中具有很好的应用前景。

申请人：暨南大学

地址：510632 广东省广州市天河区黄埔大道西601号

国籍：CN

代理机构：广州市华学知识产权代理有限公司

代理人：黄磊

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