一种激光干涉光刻系统[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种激光干涉光刻系统专利类型：发明专利

发明人：彭长四,董晓轩,张伟,顾小勇,周云,刘维萍申请号：CN201110178877.6申请日：20110629公开号：CN102236267A公开日：20111109

摘要：本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光；所述反射光经过本镜组的第一全反镜和第二全反镜的反射后，照射在待光刻样品的干涉点；所述透射光成为与本镜组相邻的镜组的入射光。采用本发明所公开的激光干涉光刻系统，干涉光线的入射面可以围绕入射光线的主光轴，进行任意角度的调节，大大增加了干涉光束入射面之间角度的调节范围，能够满足干涉图样的多样性。

申请人：苏州大学

地址：215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号

国籍：CN

代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司

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