您好,欢迎来到飒榕旅游知识分享网。
搜索
您的当前位置:首页基于0.5μmCMOS工艺的一款新型BiCMOS集成运算放大器设计

基于0.5μmCMOS工艺的一款新型BiCMOS集成运算放大器设计

来源:飒榕旅游知识分享网
2011年1月15日 第34卷第2期 现代电子技术 Modern Electronics Technique Jan.2011 Vo1.34 No.2 基于0.5 m CMOS工艺的一款新型 BiCMOS集成运算放大器设计 赵俊霞,陆雅明 (三江学院,江苏南京210012) 摘 要:为了提高运算放大器的驱动能力,依据现有CMOS集成电路生产线,介绍一款新型BiCMOS集成运算放大电路 设计,探讨BiCMOS工艺的特点。在S Edit中进行“BiCMOS运放设计”电路设计,并对其电路各个器件参数进行调整,包括 MOS器件的宽长比和电容电阻的值。完成电路设计后,在T spice中进行电路的瞬态仿真,插入CMOS,PNP和NPN的工 艺库,对电路所需的电源电压和输入信号幅度和频率进行设定调整,最终在W—Edit输出波形图。在MCNC 0.5 um工艺平 台上完成由MOS、双极型晶体管和电容构成的运算放大器版图设计。根据设计的版图,设计出BiCMOS相应的工艺流程, 并提取各光刻工艺的掩模版。 关键词:BiCM()s;运算放大器;版图;VI SI 中图分类号:TN433—34 文献标识码:A 文章编号:1004—373X(2011)02—0142 03 Design of New BiCMOS Integrated Operational Amplifier Based On 0.5 m CMOS Technology ZHA()Jun-xia,I U Ya ming (Sanjiang University,Nanjing 21001 2,China) Abstract:In order to improve the drive capability of operational amplifier,a new circuit of BiCMOS integrated operational amplifier is designed on the basis of available CMOS integrated circuit production line.The technique characteristics of BiCMOS is discussed.The BiCMOS operational amplifier is designed in S—Edit.The parameters of various devices in the cir— cult is adjusted,including width to length ratio of MOS device and capacitance values of resistors.After the circuit design,the transient simulation is performed in T spice,and the CMOS,PNP and NPN bipolar technology library are used to set the sup— ply voltage,the amplitude and frequency of the input signal,and then send out the final waveform diagram in W-Edit.The layout design of the operational amplifier composed of MOS,bipolar transistors and capacitors on the MCNC 0.5“m IC Process Line is completed.According to the designed layout,the corresponding BiCMOS process flows are designed,and the masks of lithography process are extracted. Keywords:BiCMOS;operational amplifier;layout design;VI SI 0 引 言 极电路无法比拟的优势,但在高速、大电流驱动场合却 为力。由此可见,无论是单一的CMOS,还是单一 近几年来,随着混合微电子技术的快速发展及其应 的双极技术都无法满足VLSI系统多方面性能的要求, 用领域的不断扩大,使其在通信行业和计算机系统有了 因此只有融合CMOS和单一的双极技术这两种优势构 快速的发展和广泛的应用。随之电子和通信业界对于 造BiCMOS器件及其电路,才是VLSI发展的必然产 现代电子元器件(例如大规模集成电路)、电路小型化、 物 j。由于最先提出BiCMOS器件的构造思路时,双 高速度、低电源电压、低功耗和提高性价比等方面的要 极和CMOS技术在工艺和设备上差异很大,组合难度 求越来越高_1 。传统的双极技术虽然具有高速、电流驱 和成本都高,同时因应用上的需求并不十分迫切,所以 动能力强和模拟精度高等优点,但其功耗和集成度却不 BiCMos技术的发展比较缓慢 ]。 能适应现代VLSI技术发展的需要 ]。而一直作为硅 1电路图设计 锗(SiGe)集成电路主要技术平台的MOS器件及其电 路虽在高集成度、低功耗、强抗干扰能力等方面有着双 本文基于MCNC 0.5 m CMOS工艺线设计了 BiCMOS器件,其集成运算放大器由输入级、中间级、输 收稿日期:2010—08—19 出级和偏置电路4部分组成 。输入级由CMOS差分 基金项目:三江学院2008年大学生创新训练计划:BiCOMS 输入对即两个PM0S和NMOS组成;中间级为CMOS 运算放大器设计(xj0806) 共源放大器;输出级为甲乙类互补输出嘲。图1为 144 口J以测量出共模电压增益: A一 ==:10 现代电子技术 2011年第34卷 Tanner Por软件平台上完成电路图的绘制、仿真,并在 (8) MCNC 0.5 m CMOS工艺线上完成该电路的版图设 计,经实用,运算放大器的参数均达到了设计要求。 因此共模抑制比为: CMRR一 n 一 1U 一2 35o (9) 满足设计要求。 3 版图设计 采用的是以CMos工艺为基础的BiCMos兼容工 艺l9]。首先以外延双阱CMOS工艺为基础,在N阱内 增加了N 埋层和集电极接触深N。。注入,用以减少 BJT器件的集电极串联电阻阻值,以及降低饱和管压 降;其次用P 区(或N。_区)注入,制作基区;再者发射 区采取多晶硅掺杂形式,并与MOS器件的栅区掺杂形 式一致,制作多晶硅BJT器件。由此可见,这种高速 图7 整体版图及其中NPN管放大图 参考文献 BiCMOS制造工艺原则上不需要增加其他的重要 工序 。 Eli李桂宏,谢世健.集成电路设计宝典[M].北京:电子工业出 版社,2006. [2]胡宴如,耿苏燕.模拟电子技术基础[M].北京:高等教育出 版社,2004. [3]SODAGAR Amir M.双极型与CMOS放大器分析[M].王 志华,李冬梅,译.北京:科学出版社,2009. [4]高光永.BiCMOS器件及BiCMOS器件的制造方法:中国, CN1956196AEP].2007 05—23. 图6 以N阱CMOS工艺为基础的BiCMOS结构 [5]BAKER R Jacob.CMOS电路设计、布局与仿真[M].刘艳 艳,张为,译.北京:人民邮电出版社,2008. 由于基准电路不易调整,在设计版图时将基准部分 外接。基于0.5 m CMOS工艺的运算放大器版图如 图7所示。 4结 语 [6]YEO K S.ROFAIL Samir S,GOH W L.低压低功耗 CMOS/BiCMOS超大规模集成电路[M].北京:电子工业出 版社,2003. [7]sung—Mo Kang,Yusuf Leblebici.CMOS数字集成电路分 析与设计[M].3版.北京:电子工业出版社,2006. 该运算放大器结合了CMOS工艺低功耗、高集成 度和高抗干扰能力的优点,双极型器件的高跨导,负载 电容对其速度的影响不灵敏,从而具有驱动能力强的优 点。该BiCMOS器件在现有CMOS工艺平台上制造。 该放大器以CMOS器件为主要单元电路,在驱动大电 容负载之处加入双极器件的运算放大器电路,然后在 作者简介:赵俊霞[8]徐建强.高压BiCMOS运算放大器设计[D].西安:西安电子 科技大学,2009. [9]SAINT C,SAINT J.集成电路掩模设计:基础版图技术 [M].北京:清华大学出版社,2006. [a0]HASTINGS Alan.The art of analog layout[M].USA: PearsOn Education Asia I imited。2001. 女,1979年出生,硕士,教师。主要从事超大规模集成电路设计工作及运算放大器芯片设计工作。 陆雅明 男,1987年出生。从事集成电路及运算放大器芯片的设计工作。 (上接第141页) [6]SAKUL Chaiwat.A low voltage supply four—quadrant ana— [8]钟文耀,郑美珠.CMOS电路模拟与设计:基于Hspice[M]. 北京;科学出版社,2007. log multiplier circuit[c]//IEEE 2009 3rd International Conference on Anti counterfeiting,Security and Identifica— tion in Communication.Hong Kong:IEEE,2009:258—261. [9][美]毕查德・拉扎维.模拟CMOS集成电路设计[M].陈贵 灿,译.西安:西安交通大学出版社,2003. [7]康华光.电子技术基础(模拟部分)[M].北京:高等教育出版 社,2005. [1O]HANSTINGS Alan.模拟电路板图的艺术[M].张为,译. 北京:电子工业出版社,2007. 

因篇幅问题不能全部显示,请点此查看更多更全内容

Copyright © 2019- sarr.cn 版权所有 赣ICP备2024042794号-1

违法及侵权请联系:TEL:199 1889 7713 E-MAIL:2724546146@qq.com

本站由北京市万商天勤律师事务所王兴未律师提供法律服务