专利名称：一种低密度ITO蒸镀靶材的制备方法专利类型：发明专利
发明人：周贤界,郑子涛,许积文,苏中华申请号：CN201210228241.2申请日：20120704公开号：CN102731068A公开日：20121017
摘要：本发明涉及一种低密度ITO蒸镀靶材的制备方法，通过采用高活性、单分散的ITO纳米粉体作为原料，通过高温预烧制、掺脂、造粒处理，得到性能均匀的造粒ITO粉，再经过成型、脱脂处理后，在常压或无压的氧气气氛中烧结而成。本发明具有生产安全、低成本的优势，所制备的ITO蒸镀靶材能有效防止蒸镀中出现的破裂和喷溅现象，并且具有较好的均匀性和成膜特性。
申请人：韶关西格玛技术有限公司
地址：512030 广东省韶关市武江区西联镇沐溪工业园
国籍：CN
代理机构：韶关市雷门专利事务所
代理人：周胜明
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