专利名称：一种狭缝电极、阵列基板及显示装置专利类型：发明专利发明人：占玙娟,朴求铉申请号：CN201210473050.2申请日：20121120公开号：CN102998857A公开日：20130327
摘要：本发明公开了一种狭缝电极、阵列基板和显示装置，用以提高阵列基板图像亮度的均匀性，降低图像色偏的问题。本发明提供的狭缝电极包括：至少一个狭缝电极单元，所述狭缝电极单元包括多个沿第一方向排列的第一狭缝组，以及多个沿第二方向排列的第二狭缝组；所述第一狭缝组中包括至少一个沿第一方向排列的狭缝；所述第二狭缝组中包括至少一个沿第二方向排列的狭缝；所述第一狭缝组和所述第二狭缝组间隔排列。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人：黄志华
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