专利名称：等离子体处理装置及其上电极板专利类型：发明专利
发明人：林盈宏,李宗澧,叶守正,林明勋申请号：CN200810125200.4申请日：20080619公开号：CN101296554A公开日：20081029
摘要：本发明涉及一种等离子体处理装置及其上电极板，该上电极板安装于腔体内，腔体设置有托板，上电极板包含：第一表面；第二表面，对应第一表面；至少一个气体扩散孔，由第一表面延伸至第二表面，用以导入制程气体；及至少一个定位孔，位于第一表面而未延伸至第二表面，用以锁入锁固元件而定位于托板。本发明以锁固元件将上电极板定位于托板，防止上电极在长期使用的情况下产生弯曲的问题，并将上电极板的定位孔以封孔设计(定位孔位于第一表面上而未延伸至第二表面)或设置封孔块，以此避免制程气体中的离子累积于上电极的锁固元件处而造成产品产生色差，以此提升产品的质量与合格率。
申请人：友达光电股份有限公司
地址：中国台湾新竹市
国籍：CN
代理机构：隆天国际知识产权代理有限公司
代理人：潘培坤
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