专利名称：一种低温下由氧化铁直接电沉积制备纳米铁镀层的
方法
专利类型：发明专利
发明人：鲁雄刚,谷山林,邹星礼,沈斌,赖冠全,耿淑华,肖玮申请号：CN201410139768.7申请日：20140409公开号：CN103966635A公开日：20140806
摘要：本发明涉及一种低温下由氧化铁直接电沉积制备纳米铁镀层的方法，属于绿色电镀工艺技术领域。本发明主要包括以下步骤：以三氧化二铁粉末（化学分析纯）为原料；电解质采用质量分数为50%的NaOH水溶液，阳极采用铂丝，阴极采用铜片；将过量的三氧化二铁粉末置于NaOH溶液中搅拌以得到饱和溶液；在60~80℃温度区间，以1.8V恒电压进行电镀，电镀时间为1–3h，电镀后取出阴极，水洗干燥后可得到铁镀层。
申请人：上海大学
地址：200444 上海市宝山区上大路99号
国籍：CN
代理机构：上海上大专利事务所(普通合伙)
代理人：陆聪明
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