专利名称：薄膜真空荧光显示器制备工艺专利类型：发明专利发明人：陈晟,薛毅,陈辉申请号：CN200410052650.7申请日：20040708公开号：CN1719572A公开日：20060111
摘要：本发明公开了一种薄膜真空荧光显示器制备工艺，在玻璃基板上进行铝溅射，使基板的表面均匀覆盖一层铝膜，然后对基板进行成像工程，使基板的表面呈现所要求的电气布线图形，所述的成像工程包括P/R涂敷、Pre－Bake烘干、曝光、显影、蚀刻、去膜5个步骤。本发明改变了目前厚膜VFD生产工艺中配线通过丝网印刷方式形成的旧工艺，使得薄膜VFD产品单位面积内配线密度、配线精密度、配线的复杂性都得以大幅度的提高，并进一步使VFD最大尺寸从厚膜VFD的150*50mm提高到薄膜VFD的220*80mm，本发明生产的薄膜VFD产品具有显示区域面积大、显示内容丰富等优点。
申请人：上海三星真空电子器件有限公司
地址：201613 上海市松江工业区荣乐东路389号
国籍：CN
代理机构：上海申汇专利代理有限公司
代理人：吴宝根
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