专利名称：一种带磁场方向刻度的旋转靶专利类型：实用新型专利发明人：宋光耀,叶平
申请号：CN201721240611.9申请日：20170926公开号：CN207362326U公开日：20180515
摘要：本实用新型适用于磁控溅射真空镀膜技术领域,公开了一种带磁场方向刻度的旋转靶，包括旋转靶主体(10)；所述旋转靶主体(10)的一端设有分度盘(11)，分度盘(11)设有刻度线(111)，所述旋转靶主体(10)设有靶材(12)、芯轴(13)、磁铁组(14)，所述磁铁组(14)设有第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)，在旋转靶主体(10)剖面图中，第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)以第二磁铁条(142)的中线(1421)成对称；所述第二磁铁条(142)的中线(1421)对应刻度线(111)的0度。有益效果在于：把旋转靶装入磁控溅射真空镀膜的炉中，可根据旋转靶上刻度线，调整旋转靶的磁场中轴线与基片的角度，保障磁控溅射真空镀膜的膜层均匀。
申请人：深圳市鼎力真空科技有限公司
地址：518000 广东省深圳市光明新区公明街道塘尾村南埔山粤宝公司A区5号
国籍：CN
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